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作為材料科學(xué)領(lǐng)域的高級(jí)分析工具，蔡司EVO系列掃描電鏡憑借其模塊化設(shè)計(jì)和智能化操作界面，為科研人員提供了從基礎(chǔ)成像到復(fù)雜分析的全流程解決方案。本文系統(tǒng)梳理其操作流程與關(guān)鍵技術(shù)要點(diǎn)。一、開(kāi)機(jī)準(zhǔn)備與設(shè)備自檢蔡司掃描電鏡啟動(dòng)前需確認(rèn)環(huán)境參數(shù)：溫度控制在20-24℃，濕度低于65%，UPS電源供電正常。操作人員需佩戴防靜電手套，避免污染樣品或損壞電子元件。開(kāi)啟主機(jī)背面空氣開(kāi)關(guān)后，依次按下Standby和On按鈕，系統(tǒng)進(jìn)入自檢程序。此時(shí)需觀察真空泵運(yùn)行狀態(tài)，確保機(jī)械泵與分子泵正常啟動(dòng)，...

在材料科學(xué)研究與工業(yè)質(zhì)檢領(lǐng)域，金相試樣的制備質(zhì)量直接影響顯微分析的準(zhǔn)確性。司特爾作為金相制樣設(shè)備的品牌，其金相制樣切割機(jī)憑借杰出的性能和精心的用材設(shè)計(jì)，成為實(shí)驗(yàn)室制備高質(zhì)量試樣的核心工具。一、核心性能解析1.精準(zhǔn)切割能力：司特爾金相制樣切割機(jī)采用高精度無(wú)級(jí)變速電機(jī)，搭配自適應(yīng)進(jìn)給系統(tǒng)，可精準(zhǔn)控制切割速度與力度。針對(duì)不同硬度材料，設(shè)備能自動(dòng)調(diào)節(jié)切割參數(shù)，確保切口平整度誤差小于5μm，避免材料組織因切割應(yīng)力而變形。2.高效冷卻系統(tǒng)：配備雙通道內(nèi)冷設(shè)計(jì)，切割時(shí)通過(guò)精密噴嘴將冷卻液（...

在半導(dǎo)體制造工藝快速發(fā)展的今天，精密三維測(cè)量技術(shù)正成為推動(dòng)行業(yè)進(jìn)步的關(guān)鍵力量。近日，一場(chǎng)以"半導(dǎo)體制造中的精密三維測(cè)量技術(shù)"為主題的網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)，深入探討了該領(lǐng)域的突破與應(yīng)用前景。第三代半導(dǎo)體材料的精密測(cè)量挑戰(zhàn)隨著金剛石、碳化硅和鈣鈦礦等第三代半導(dǎo)體材料的廣泛應(yīng)用，晶圓制造和材料表征面臨著新的技術(shù)要求。通過(guò)干涉測(cè)量技術(shù)結(jié)合智能算法，研究人員能夠精準(zhǔn)測(cè)量具有微米級(jí)顆粒和納米級(jí)特征的復(fù)雜形貌，為新材料研發(fā)提供可靠支撐。異構(gòu)集成技術(shù)的創(chuàng)新突破異構(gòu)集成技術(shù)通過(guò)將微透鏡、共封裝光學(xué)元件和...

Sensofar白光干涉儀作為精密光學(xué)測(cè)量設(shè)備，使用中易受光學(xué)部件、機(jī)械結(jié)構(gòu)、軟件系統(tǒng)及環(huán)境等因素影響出現(xiàn)故障。以下是其常見(jiàn)問(wèn)題、成因及對(duì)應(yīng)排查解決辦法，結(jié)合其Sneox等主流系列的特性整理而來(lái)：光源相關(guān)問(wèn)題常見(jiàn)故障：光源亮度不穩(wěn)定、不亮，或4色LED光源(紅、綠、藍(lán)、白)某一色無(wú)法點(diǎn)亮，影響干涉條紋形成。排查解決：先檢查電源連接是否牢固，開(kāi)關(guān)是否正常，若電源無(wú)問(wèn)題，再查看光源連接線有無(wú)破損、接觸不良；其采用光纖耦合相關(guān)的光源結(jié)構(gòu)，需重點(diǎn)檢查光纖是否折損、脫落；LED光源雖壽...

微透鏡陣列作為光學(xué)領(lǐng)域的核心元件，由數(shù)百至數(shù)千個(gè)微米級(jí)透鏡單元組成，廣泛應(yīng)用于成像系統(tǒng)、光通信、傳感器等領(lǐng)域。其表面微觀3D輪廓參數(shù)（如曲率半徑、面型誤差、中心厚度等）直接影響光學(xué)性能，而白光干涉儀Sneox憑借其非接觸、高精度、三維成像的獨(dú)特優(yōu)勢(shì)，成為微透鏡陣列表征的“黃金標(biāo)準(zhǔn)”。一、亞納米級(jí)精度：解鎖微觀形貌的“密碼”微透鏡陣列的測(cè)量需滿足三大核心需求：高精度三維參數(shù)提取、大面積快速檢測(cè)、非接觸無(wú)損測(cè)量。傳統(tǒng)探針式輪廓儀雖精度較高，但接觸式測(cè)量易劃傷表面；激光共聚焦顯微鏡...

在半導(dǎo)體、精密光學(xué)等制造領(lǐng)域，表面測(cè)量常面臨“精度”與“范圍”的兩難——白光干涉（CSI）能掃數(shù)百微米卻難及納米級(jí)精度，相移干涉（PSI）達(dá)亞納米精度卻量程受限。而Sensofar的ePSI技術(shù)，用創(chuàng)新融合破解了這一難題。ePSI的核心，是讓CSI與PSI“強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手”：依托CSI實(shí)現(xiàn)數(shù)百微米的寬范圍掃描，覆蓋宏觀輪廓到中觀結(jié)構(gòu)；借助PSI達(dá)成0.1nm的亞納米級(jí)分辨率，精準(zhǔn)捕捉微小劃痕、薄膜厚度差異。無(wú)需頻繁換設(shè)備、調(diào)參數(shù)，一次測(cè)量就能兼顧全局與細(xì)節(jié)。這一技術(shù)已在關(guān)鍵領(lǐng)域落地...

在精密測(cè)量與科研領(lǐng)域，軟件工具的性能直接決定了工作流程的效率與數(shù)據(jù)精度。2025年10月，Sensofar針對(duì)旗下四款核心軟件推出重磅更新，從分析能力拓展、運(yùn)行速度提升到測(cè)量精度優(yōu)化，解決用戶在數(shù)據(jù)采集、處理與成像中的痛點(diǎn)，助力科研與工業(yè)檢測(cè)工作更高效、更強(qiáng)大！一、SensoPRO3.5.5：分析能力再升級(jí)，顆粒數(shù)據(jù)處理更便捷作為數(shù)據(jù)分析的核心工具，SensoPRO3.5.5此次更新聚焦“能力擴(kuò)展”與“效率提升”，新增四大實(shí)用功能，覆蓋多場(chǎng)景測(cè)量需求：1新增四大分析插件：引入...

在材料科學(xué)的微觀世界探索中，在生物學(xué)的細(xì)胞結(jié)構(gòu)研究里，在醫(yī)學(xué)的病理分析以及工業(yè)的質(zhì)量檢測(cè)領(lǐng)域，掃描電子顯微鏡（SEM）始終扮演著重要的角色。自20世紀(jì)30年代誕生以來(lái)，這項(xiàng)技術(shù)不斷革新，從最初僅能在實(shí)驗(yàn)室使用的精密設(shè)備，逐漸發(fā)展成為覆蓋多個(gè)科學(xué)領(lǐng)域的重要工具。如今，掃描電鏡主要分為臺(tái)式和落地式兩大類，面對(duì)這兩種選擇，不少科研人員和企業(yè)采購(gòu)者都會(huì)陷入糾結(jié)。今天，我們就從多個(gè)關(guān)鍵維度進(jìn)行對(duì)比，為你選出合適的掃描電鏡提供參考。臺(tái)式掃描電鏡與落地式掃描電鏡探測(cè)器：滿足基礎(chǔ)需求vs適配...