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當(dāng)前位置:首頁(yè)產(chǎn)品中心三維光學(xué)輪廓儀SensofarS?neoxSensofar光學(xué)干涉儀半導(dǎo)體與光學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用

Sensofar光學(xué)干涉儀半導(dǎo)體與光學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Sensofar光學(xué)干涉儀半導(dǎo)體與光學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用
Sensofar?S?neox 是一款集共聚焦、白光干涉和多焦面疊加三種測(cè)量模式于一體的三維光學(xué)輪廓儀,適用于實(shí)驗(yàn)室研發(fā)和工業(yè)生產(chǎn)線的表面形貌檢測(cè)。

產(chǎn)品型號(hào):S?neox
更新時(shí)間:2025-10-23
廠商性質(zhì):代理商
訪問(wèn)量:164
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Sensofar光學(xué)干涉儀半導(dǎo)體與光學(xué)領(lǐng)域應(yīng)用

  1. 半導(dǎo)體晶圓與 MEMS 器件:利用共聚焦?干涉協(xié)同測(cè)量,能夠同時(shí)獲取焊點(diǎn)高度、直徑和傾斜角等關(guān)鍵參數(shù),重復(fù)性誤差控制在 0.3?% 以內(nèi),幫助芯片制造商提升缺陷檢測(cè)效率約 40?%。

  2. 光學(xué)鏡片與薄膜厚度:白光干涉模式對(duì)亞納米級(jí)薄膜(5?nm?–?100?µm)實(shí)現(xiàn)無(wú)損厚度測(cè)量,配合偏振編碼技術(shù)可分離上下表面信號(hào),滿足 OLED、AR 鍍膜等高精度光學(xué)元件的質(zhì)量控制需求。

  3. 生物醫(yī)學(xué)材料:在人工關(guān)節(jié)、組織支架等生物材料表面,S?neox 能提供 0.1?nm 縱向分辨率的微觀形貌數(shù)據(jù),幫助研發(fā)團(tuán)隊(duì)評(píng)估表面粗糙度對(duì)細(xì)胞黏附的影響。

  4. 新能源與儲(chǔ)氫容器:對(duì)金屬氫化物涂層進(jìn)行原位形變監(jiān)測(cè),分辨率 ±0.1?µm,支持工藝參數(shù)的實(shí)時(shí)優(yōu)化。

三、S?neox參數(shù)與型號(hào)對(duì)比

參數(shù)S?neox?5(多功能型)S?neox?3(經(jīng)濟(jì)型)
縱向分辨率(干涉)0.1?nm0.1?nm
橫向分辨率(共聚焦)0.10?µm0.30?µm
最大 Z 掃描范圍10?mm10?mm
XY 行程125?mm?×?75?mm125?mm?×?75?mm
測(cè)量速度≤3?s/掃描(高速模式)≤5?s/掃描
適用場(chǎng)景半導(dǎo)體、光學(xué)、精密加工常規(guī)表面粗糙度檢測(cè)
額外功能五軸旋轉(zhuǎn)臺(tái)、AI 自動(dòng)路徑規(guī)劃基礎(chǔ)共聚焦/干涉功能

兩款型號(hào)均采用相同的光學(xué)平臺(tái)和軟件體系,區(qū)別主要在于硬件配置(如高 NA 物鏡、五軸旋轉(zhuǎn)臺(tái))和軟件功能的深度。


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